孙清清，男，复旦大学博士，微电子学院研究员、博士生导师、上海市“晨光计划”、上海市青年科技启明星计划获得者。分别于2004 年、2009 年获复旦大学学士、博士学位。2009 年起，在复旦大学微电子学科工作，任讲师，2011 年晋升为副研究员，2013 年破格晋升为研究员，主要从事微电子器件和集成电路工艺的研究。目前孙清清是多项国家科技重大专项，自然科学基金，教育部博士点基金的负责人或首席专家，在微电子工艺和器件领域的顶级期刊和会议上发表论文80余篇，其中国际著名期刊Science 论文1 篇, Applied physics letters(影响因子3.841)论文10 篇, IEEE Electron Device Letters (影响因子2.761)论文5 篇。孙清清还拥有21项中国专利，6 项美国专利。
代表成果
在微电子工艺和器件领域的顶级期刊和会议上发表论文80余篇，其中国际著名期刊Science 论文1 篇, Applied physics letters(影响因子3.841)论文10 篇, IEEE Electron Device Letters (影响因子2.761)论文5 篇。孙清清还拥有21项中国专利，6 项美国专利。
研究领域
微电子器件和集成电路工艺的研究
项目
1、国家科技重大专项课题“65-45nm PVD工艺优化的理论和实验研究”
2、国家科技重大专项课题“32-22nm高k/金属栅纳米叠层材料制备工艺研究”
3、自然科学基金委重大科学仪器研制项目课题“二维电子材料及纳米量子器件的研究和原位分析仪器”
4、国家高技术研究发展计划（863计划）子课题“14纳米以下技术代硅基新型器件及关键工艺技术研究”
5、自然科学基金面上项目“高k介质/拓扑绝缘体界面结构的物理和电学特性研究”
6、教育部博士点基金“纳米超薄高k介质缺陷的物理特性及钝化研究”
7、自然科学基金青年基金“原子层淀积栅介质/石墨烯纳米叠层的界面和电子结构”
8、上海市教委晨光计划“原子层淀积高k/金属栅纳米叠层及功函数调制机理研究
